Deposisi uap kimia (CVD) adalah metode dengan memperkenalkan zat prekursor (biasanya senyawa organik atau senyawa logam organik) dalam gas reaksi ke dalam ruang reaksi, dan menyebabkannya terurai secara termal atau bereaksi secara kimia pada suhu tinggi untuk membentuk produk reaksi diendapkan disimpan ke substrat untuk membentuk film tipis. Metode ini dapat digunakan untuk menyiapkan tungku industri untuk bahan pemanas seperti logam, paduan, semikonduktor dan keramik.
Ini banyak digunakan dalam industri dan pembuatan produk berikut:
Cakram rem karbon penerbangan sipil
Bahan Lapangan Termal Karbon-Karbon Untuk Bahan Lapangan Termal Silicon Pertumbuhan Silikon Tunggal
Karbon-Karbon untuk Bahan Lapangan Termal Polikristalin Silikon Hidrogenasi Silicon Tungku Bahan Termal
Karbon-Karbon Untuk Bahan Struktural Struktur Karbon Suhu Polikristalin dan Tungku PECVD
Bahan struktural suhu suhu tinggi karbon-karbon struktural suhu tinggi Suhu tinggi struktural tinggi suhu tinggi karbon suhu tinggi
karbon karbon tinggi karbon tinggi karbon tinggi karbon tinggi karbon tinggi karbon tinggi bagian
karbon-karbon-silikon karbida komposit
karbon/karbon runtuh, runtuh status
panduan karbon tabung tabung
karbon tabung
karbon/pelat karbon, silinder isolasi
karbon/pelat karbon, silinder isolasi
karbon/karbon karbon
karbon/wadah karbon karbon
Parameter produk CVD Chemical Vapor Deposition Furnace
1. Model: yhgyl-cjl **/**-** (spesifikasi ukuran yang disesuaikan)
2. Metode Pemanasan: Pemanasan Resistansi Grafit Isostatik
3. Kontrol Daya: Tegangan DC rendah, mode arus tinggi
4. Kekuatan desain adalah 200kW, dan kekuatan produksi aktual tidak lebih dari 150kW.
5. Catu Daya: Sistem Lima Kawat Tiga Fase, Tiga Fase 380V, Frekuensi 50Hz
6. Suhu desain: 2100 ℃, suhu umum jangka panjang adalah 2000 ℃;
7. Metode Pendinginan: Pendinginan Alami
8. Ruang Penempatan Bahan yang Efektif: Disesuaikan oleh Pelanggan
9. Laju Pemanasan: Saat memuat, laju pemanasan rata-rata di bawah 1000 ℃ adalah 5 ℃/menit, laju pemanasan rata-rata antara 1000-1800 ℃ adalah 5 ℃/menit, dan laju pemanasan rata-rata antara 1800-2250 ℃ adalah 3 ℃/ Min.
10. Akurasi Kontrol Suhu: Suhu Kamar RT -2000 ℃ ≤ ± 5 ℃
11. Konfigurasi Catu Daya: Terintegrasi dengan Badan Tungku
12. Jenis Tubuh Tungku: Pelepasan Pintu Depan Horisontal
13. Kandungan gas kerja di tungku: vakum atau ar, n2, nh₃ dan gas lainnya (sedikit tekanan positif), penggantian vakum; (Kontrol tekanan konstan otomatis dalam kisaran 100-7500PA)
14. Keseragaman suhu: ≤ ± 3 ℃ (dievaluasi setelah 30 menit suhu konstan);
15. Pengukuran Suhu: Pengukuran Suhu Termokopel Tungsten Tungsten Multi-Zone Tungsten
16. Kontrol Suhu: Jepang Shimaden FP23, PID Controller Suhu Controller Kontrol Program (Akurasi Kontrol Suhu: ± 0,1 ℃) dan kontrol manual;
17. Metode Perlindungan: PLC+Layar Sentuh+Alarm Suara dan Lampu
18. Konfigurasi Sistem Vakum: pompa katup geser 2H-150
19. Pengukuran Vakum: Resistance + Kapasitansi Vakum Pengukur Vakum, Kisaran Pengukuran 0-10-5 Pa
20. Tingkat kenaikan tekanan: Evakuasi ke 5Pa, hentikan pompa selama 30 menit dan mulai waktu, kenaikan tekanan per jam ≤ 10p
21. Derajat Vakum Tertinggi Dingin: ≤5Pa (dalam keadaan bersih, dingin, dan kosong)
22. Waktu Pengosong Tungku Kosong ≤30 menit (tungku kosong, suhu kamar, lihat GB/T10066.1-2004 untuk pengujian.)
23. Tekanan maksimum di tungku 0,02mpa
24. Meter Aliran Massa: Beijing Qixing Huachuang
25. Sistem Pendingin: Semua pipa air yang bersirkulasi disegel dengan baik dan tidak ada kebocoran selama penggunaan;
26. Kontrol Listrik: Siemens PLC + Delta Layar Sentuh 15-Inch. Parameter utama seperti vakum, suhu, dan daya dapat ditanya secara real time dan secara historis, dan dapat diekspor melalui USB flash drive dan mengatur perekam tanpa kertas.
27. Bahan impor digunakan untuk komponen utama, seperti instrumen kontrol suhu dan termometer.
28. Metode Pembukaan: Manual
29. Metode Entri dan Keluar Bahan: Dilengkapi dengan Truk Masuk dan Keluar Khusus
30. Warna cat: Tubuh utama putih susu, bingkai langit biru, pangkalan hitam
Showcase produk
Contact Now